Ni 膜在Al2O3单晶基片上的结构与形貌研究 1.引言： 目前Al2O3与Ni构成的系统是催化剂研究领域中较为热门的一大话题。

与此同时，众所周知的是Al2O3单晶基片，具有耐高温、耐化学腐蚀、稳定的化学性，优良的导热性、热特性、介电特性，极好的电气特性和化学稳定性好等优点[1]。

由于 Al2O3 单晶基片，与金属很难在材料表面浸润，表面形貌对性能的影响显得尤为突出，所以我们需要将单晶基片金属化,这样可以使Al2O3 单晶基片在更加容易电镀生产、加工的同时，提高与金属间的结合力，拓展应用范围[2]。

为了尽可能提高陶瓷与金属覆盖层的结合强度,必须对陶瓷基体表面进行刻蚀处理,适当地增加基体表面的粗糙度和接触面积,以便获得理想的表面形貌和润湿性能[3]。

2. Al2O3单晶基片 2.1 Al2O3性能 Al2O3单晶又称”蓝宝石”，是一种常用的红外光学材料，Al2O3单晶具有很宽的透过波段（0.15~7μm），是一种极为理想的多光谱宽波段窗口材料。

与普通的宽波段窗口材料相比,它具有许多优良的机械特性和光学特性。

Al2O3单晶基片表面金属化已成为高技术产业特别重要的工艺技术,如陶瓷基印制电路板、多层芯片封装、微电子和精密机械制造等。

它赋予电子元器件以高密度、高性能和严酷工作环境下的高稳定性[ 4 ] 。

对于形状复杂的高密度导电互连器件,化学镀作为陶瓷表面金属化技术具有不可替代的优势。

通过对Al2O3单晶基片表面金属化工艺过程开展较系统的研究,期望增加新的认识,寻找有效的途径提高镀层与陶瓷基体之间的结合力,满足工业应用的需要[ 5～37]。