不同醇类牺牲剂光合成的Cu/BiVO4光催化性能研究文献综述
2020-04-14 21:37:31
如今,工业生产中会产生大量各种不同的废弃物,例如,工业废水中的易燃物,生活废水中的氮,磷,硫,纤维素,淀粉,糖类,蛋白质,尿素(CO(NH2)2), 大量合成剂,洗涤剂,农村污水中的农药,S-三嗪类物质,甲胺磷农药废水,有机磷农药,化肥,焦化废水中的酚类,氰化物,氨,氮,有机盐,芳烃,有机盐,硫化物,化工制药废水中的胺类,酚类,醇类,醚类,吡啶,酚醛树脂,聚苯乙烯,多氯联苯,二哦英卤,代芳香族,卤代脂肪族,滴滴涕等。此类废弃物中,包含着化学性能较为稳定的部分有机污染物,难以被常用的氧化剂完全矿化,在自然环境以及常规废水处理环节中不易被降解,容易对环境造成污染。为了实现我们一直倡导的可持续发展,开发新技术来治理环境污染已迫在眉睫。近年来,涌现出了很多的绿色技术,其中,半导体光催化技术被广泛关注,该技术可以利用太阳光或人造光源激发半导体光催化剂,使其产生活性基团,这些活性基团本身具有强氧化性或能够与其他基团反应生成具有强氧化性的基团,然后将有机污染物彻底氧化降解成CO2和H2O等无机小分子,不会造成二次污染。该技术可利用自然光、无需额外的能量消耗,运行成本低,反应条件比较温和,装置简单,最重要的是适用范围广,能够降解很多种有机污染物,尤其是可以氧化分解一些难以降解的有机污染物。
{title}2. 研究的基本内容与方案
{title} BiVO4纳米片的合成1. 称取0.8422g NH4VO3和3.4923g Bi(NO3)3·5H2O分别溶于30 ml,2M HNO3之中,将偏钒铵酸缓慢的滴加至五水合硝酸铋溶液中,将搅拌速度调到最大,然后用保鲜膜封口,避免灰尘污染;
2. 将浓氨水缓慢(控制滴加速度在7-8s/滴)滴加到混合溶液中,直至沉淀完全 (氨水体积分别为7.0 ml,7.5 ml,8.0 ml,8.5 ml) ,搅拌30 min,静置沉降2 h;
3. 将溶液转移至100 ml水热釜中,180℃水热24 h,离心洗涤,在60℃下烘12 h,即得BiVO4纳米片。
二、在不同醇类牺牲剂下光沉积合成的Cu/BiVO4
1. 取上述制备200mg的BiVO4粉末于三口烧瓶中,加入10%甲醇空穴牺牲剂 (乙醇,正丁醇,乙二醇,丙三醇);
2.在上述三口烧瓶中加入一定体积的0.1M的Cu(NO3)2溶液,通氮气1通氮气,室温搅拌30min,在420 nm LED下光照1h;
3.将上述得到的样品用蒸馏水和无水乙醇各洗涤3次,并将样品于60度烘箱干燥12 h
三、探讨不同空穴牺牲剂对光沉积Cu形貌的影响
观察在上述不同的空穴牺牲剂(甲醇,乙醇,正丁醇,乙二醇,丙三醇)下光沉积合成的Cu/BiVO4的形貌。
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