1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

文 献 综 述

1.形状记忆聚合物

形状记忆聚合物是指具有初始形状的制品在一定条件下改变其初始条件并固定后，通过外界条件（热、电、光、化学感应等）的刺激又可恢复其初始形状的高分子材料^[1]。形状记忆聚合物相比记忆合金，具有价格低廉，易于加工，记忆恢复温度范围更宽等特点^[2]。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

随着微结构复制精度的提高, 软模板表面的微结构会出现坍塌、粘连, 使转移效率降低。pdms 在复制时由于界面粘连、自身表面自由能和杨氏模量等局限,无法复制精度小于50nm 的微结构。)材料不够丰富,目前的复制模塑技术大多局限于制备聚合物超疏水表面, 可考虑将其扩展到工程材料、纳米材料等领域。并且在对 pdms 内嵌式光栅进行拉伸时，受力不均可能会导致光栅周期不一致、个别栅线断裂等问题，影响最终的实验结果。由于光栅尺寸极小，进行翻模复制时，eva 的甲苯溶液难以完全填充到pdms 内嵌式光栅的沟槽中，造成复制的光栅栅线高度变小。

本课题主要内容将对以下内容进行深入研究：(1) 技术层面上在eva表面制备结构规整的微米级别光栅结构，并探究两种形状赋予方式如何改变eva光栅的光栅参数和光栅高度；(2) 在基础研究层面上揭示对于eva而言，初始形状、临时形状、以及完全回复形状下eva反射光栅对自然光的色散能力，以及特定波长垂直入射光的衍射效率和衍射角度。

1 原料准备