过渡金属掺杂相变材料Sn2Se3薄膜的制备工艺及电性能研究任务书
2020-04-07 10:11:53
1. 毕业设计(论文)主要内容:
相变存储技术以其非易失性、写入速度快等性能优势,有望成为新一代存储技术。目前研究较多的相变材料GeTe、Sb2Te3、Ge2Sb2Te5等在写入功率、热稳定性等方面的性能扔有待提高。最近几年锡硒化合物由于其优异的相变转化速度及电阻比等,引起关注;针对Sn2Se3、SnSe2等进行了相变性质相关的研究工作。上海微系所通过Al、Cu掺杂的方式分别研究了Sn2Se3、SnSe2的相变存储特性,发现在相变速度、能耗等方面得到显著提高。本课题拟采用磁控溅射的方法制备过渡金属如Zn、Ti等掺杂的Sn2Se3薄膜,研究并优化薄膜材料的制备工艺。利用X射线电子能谱分析仪、SEM、四探针电阻测试仪等设备,研究过渡金属掺杂掺杂对材料的微结构、电学性质等方面的改变;并尝试不同浓度过渡金属掺杂对材料产生的电性能影响。
2. 毕业设计(论文)主要任务及要求
-
阅读相变存储材料的制备与研究方面的相关文献(不少于15篇,其中英文不少于5篇),并翻译其中一篇英文文献(不少于5000字)。
-
独立完成开题报告,并提交文献综述报告(不少于3000字;参考文献不少于10篇,其中外文不少于5篇)。
-
熟悉磁控溅射仪的使用,准备溅射材料,调试制备工艺,制备薄膜样品。
剩余内容已隐藏,您需要先支付后才能查看该篇文章全部内容!3. 毕业设计(论文)完成任务的计划与安排
第1-3周:查阅相关文献资料,明确研究内容,准备实验原材料以及熟悉制备和测试设备。完成开题报告。
第4-6周: 熟悉实验仪器的使用,准备实验材料。
第7-10周:制备实验样品,测试薄膜微结构,调整实验工艺
剩余内容已隐藏,您需要先支付后才能查看该篇文章全部内容!4. 主要参考文献
-
chung k m, wamwangi d, woda m, et al. investigation of snse, snse2, and sn2se3 alloys for phase change memory applications[j]. journal of applied physics, 2008, 103(8):504.
-
you h, hu y, zhu x, et al. improved thermaland optical properties of al-doped sn 2 se 3, phase change material[j]. journalof materials science materials in electronics, 2016:1.
-
wang g, nie q, shen x, et al. advantages of zn1.25 sb 2 te 3, material for phase change memory[j]. materials letters, 2012,87(22):135.
剩余内容已隐藏,您需要先支付 5元 才能查看该篇文章全部内容!立即支付
-