ALD制备Ta2O5薄膜的光学特性研究任务书
2020-02-20 18:02:04
1. 毕业设计(论文)主要内容:
ta2o5薄膜的光谱透过波段为0.3~10μm,是可见光到近红外波段重要的高折射率材料之一。
ta2o5薄膜具有较高的折射率和热稳定性、低吸收、无定形微结构和耐化学腐蚀等优点,广泛应用于制备多种光学元件的减反膜、高反膜、分光膜和干涉滤光膜。
本设计拟采用原子层沉积技术(ald)制备ta2o5薄膜,研究工艺参数对ta2o5薄膜光学特性的影响。
2. 毕业设计(论文)主要任务及要求
1、查阅不少于15篇的相关资料,其中英文文献不少于3篇,完成开题报告。
2、掌握ald的操作方法及ta2o5的制备工艺。
3、优化ta2o5薄膜的光学性能。
3. 毕业设计(论文)完成任务的计划与安排
第1-3周:查阅相关文献资料,明确研究内容,了解研究所需文献。确定方案,完成开题报告。
第4-6周:查阅参考文献,熟悉ta2o5薄膜的性能
第7-11周:ta2o5薄膜的实验制备。
4. 主要参考文献
[1]刘华松,杨霄,王利栓等,离子束溅射氧化钽薄膜的光学带隙特性[J],光学精密工程,2017,25(1):21-27.
[2]袁文佳, 沈伟东, 郑晓雯等,离子束溅射制备Nb2O5、Ta2O5和SiO2薄膜的光学、力学特性和微结构[J],光学学报,2017,37(12):364-371.
[3]Qipeng Lv, Mingliang Huang, Songwen Deng et al. Effects of oxygen flows onoptical properties, micro-structure and residual stress of Ta2O5 films deposited by DIBS[J], Optik, 2018,166: 278–284.