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1. 研究目的与意义及国内外研究现状

随着现代微电子及光电子工业向着集成化和微型化发展的趋势,探索满足特殊需求的材料和器件结构并研究其制备过程、控制条件以及相关的特异量子效应,已经成为当今众多学科交叉研究的热点之一。特别是为了满足市场需求,器件的尺寸将越做越小。就一般情况而言,这些材料和结构都是在非平衡态下通过薄膜生长而获得的。因此,薄膜科学逐渐成为一门研究薄膜制备技术、生长机理、控制方法和物性分析的科学。在原子尺度上去研究这些物理现象，对理解生长过程、控制生长条件、提高多层膜制备质量、掌握纳米结构的形成和稳定性规律、验证其对薄膜物理和化学性质的影响从而改善薄膜和低维结构的制造工艺具有直接的重要意义。

本课题的目的是通过对zno光学薄膜生长模式的演化过程研究，可以准确地获得薄膜的结晶特性、表面界面和剖面形貌、组分和杂质及其演化特性、各种结构缺陷特性等,为光学薄膜性能的有效分析、改进和功能控制打下坚实的基础。

2. 研究的基本内容

1. 通过实验，掌握非金属氧化物光学薄膜的溶胶-凝胶法制备程序，了解衬底温度、溶胶浓度、稳定剂等对薄膜的结构与光学性质的影响，为制备高质量的氧化物光学薄膜奠定基础；
2. 采用溶胶-凝胶法制备不同厚度的zno光学薄膜；
3. 利用x射线衍射分析样品的晶体结构，利用原子力显微镜观察样品的形貌，采用光谱仪分析光学性质，采用椭偏仪测量折射率等；
4. 根据上述测试结果，分析光学薄膜的生长模式与厚度之间的关系。

3. 实施方案、进度安排及预期效果

一、实行方案：

通过前期实验，掌握非金属氧化物光学薄膜的溶胶-凝胶法制备程序，为研究制备高质量氧化物光学薄膜奠定基础；然后在优化的沉积条件下，采用旋涂法制备不同厚度的zno光学薄膜；根据上述测试结果，分析光学薄膜的生长模式与厚度之间的关系。

二、进度安排：

4. 参考文献

[1]bouzehouane k, woodall p, marcihac b, et al. enhanced dielectric

properties of srtio3 epitaxial thin film fortunable micro-wave

devices [j]. appl phys lett, 2002, 80(1): 109–111.