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毕业论文网 > 文献综述 > 理工学类 > 电气工程及其自动化 > 正文

含憎水性成分的纳秒脉冲等离子体射流阵列放电特性及优化文献综述

 2020-06-30 21:50:29  

1大气低温等离子体射流阵列简介 大气压低温等离子体射流(APPJ)在传统介质阻挡放电的基础上,通过气流将放电空间产生的一些活性成分、激发态粒子导出到开放空间中,使得放电区域与工作区域分离,从而突破传统介质阻挡放电因放电空间狭小而带来的对待处理物体积的限制,能够灵活处理具有复杂表面的大尺寸物体。

其作为一种新型表面处理和改性方法,具有操作简单、无污染、稳定性高等显著优点[1]。

使用APPJ对材料进行表面改性时,工作区产生的大量高能粒子撞击被处理材料表面,能够将材料表面共价键、离子键等化学键打开,从而将改性所需要的活性集团和极性粒子引入,在不改变材料整体物理化学性质的前提下,提高材料表面的亲水性、憎水性、吸湿性等特性。

随着等离子体射流技术的不断发展,如何将其在实际工业应用中推广受到国内外学者们的广泛关注。

传统的单管等离子体射流有效处理半径仅在毫米量级,无法满足大规模工业化生产对于处理效率的需求。

为了扩展其处理效率,将多个射流单元组合为阵列形式是目前所采用最多的方式。

图1列举了从单管射流向一维射流阵列以及二维射流阵列扩展的阵列装置图,其中图1(a)是由Shao等采用的针环结构单管射流装置[2],图1(b)是由Cui等采用的一维三管射流阵列[3],图1(c)是由Kim等采用的二维环板射流阵列[4]。

2. 国内外研究现状 现如今,以介质阻挡放电为基础发展起来的大气压等离子体射流,由于其能在压下产生高能量密度、低气体温的等离子,同时还具有放电结构灵活、可控性好,成本低廉等优点,克服了DBD放电空间的局限,在众多领域得到了广泛应用。

早在1992年,日本东京工业学院的Koinuma等通过射频电源,在介质阻挡放条件下,以惰性气体混合其他化学活性气体的工作,首次以惰性气体混合其他化学活性气体的工作,首次获得了大气压低温等离子体射流(APPJ) [5]。

此后,国内外众多科研院所在基础上进一步开展了。

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